Компания Lasertec Corp., единственный поставщик оборудования, необходимого для тестирования конструкций самых современных чипов в мире, расширила список своих клиентов за счет производителей компьютерной памяти, сообщил в интервью президент компании Осаму Окабаяси, 8 октября пишет The Japan Times. Первые заказы на испытательное оборудование Lasertec, использующее метод экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV), поступили от производителей DRAM — типа компьютерной памяти, используемой для выполнения операций, которая не сохраняет данные после отключения питания.
Благодаря спросу объем заказов Lasertec за этот период достиг рекордного уровня в 1 млрд долларов, и компания прогнозирует, что в этом году этот показатель вырастет еще на 42%. Акции компании подскочили на 5% в Токио в пятницу, что стало самым большим внутридневным скачком за месяц. Средний индекс Nikkei вырос примерно на 2%. Процесс EUV позволяет создавать самые компактные современные конструкции, обеспечивая более мощные и эффективные микропроцессоры, которые в промышленности называются логическими чипами. Компания Lasertec из Йокогамы потратила годы на разработку оборудования для этого процесса, и с начала 2019 года цена ее акций взлетела более чем на 1000%, так как EUV стали использовать такие производители, как Samsung Electronics Co. и Taiwan Semiconductor Manufacturing Co. Сейчас компания прогнозирует шестой год подряд рекордный доход и прибыль благодаря спросу на передовое производство со стороны таких компаний, как Apple Inc, чьи последние модели iPhone и iPad работают на основе EUV. До недавнего времени EUV использовался только в более сложных и прибыльных логических чипах, но теперь подразделение Samsung по производству памяти, а также SK Hynix Inc. и Micron Technology Inc. — трио, доминирующее на рынке — объявили и начали внедрять EUV для своих самых современных продуктов DRAM. «Литографическое производство микросхем лидируют в области EUV, а производители DRAM только начинают массовое производство по этой технологии в 2021 году», — сказал Окабаяси. В 2017 году компания Lasertec решила ключевую часть головоломки EUV, создав машину, которая может проверять пустые маски EUV-дизайна на наличие внутренних дефектов. Хотя это всего лишь один из этапов производственного процесса, такой процесс проверки является незаменимым, и владение технологией для его выполнения поставило Lasertec в завидное положение. В сентябре 2019 года компания преодолела еще один рубеж, выпустив оборудование, которое может делать то же самое для трафаретов с уже напечатанным на них дизайном чипов. Чипмейкеры покупают такое оборудование, чтобы минимизировать дефекты масок и тем самым повысить производительность и рентабельность производства. По словам Окабаяси, литографические предприятия, скорее всего, останутся крупнейшими клиентами компании из-за способа производства чипов. Для производства DRAM требуется всего несколько масок, поскольку схема интегральной схемы проще и существует всего несколько типов конечного продукта, сказал он. Логические чипы гораздо разнообразнее, поскольку такие компании, как Apple и Alphabet Inc.'s Google, все чаще создают чипы на заказ для своего потребительского оборудования. При производстве нанометровых микросхем используется более 10 масок, а для трехнанометровых полупроводников нового поколения требуется более 20. Lasertec с трудом поспевает за спросом. В прошлом финансовом году объем заказов вырос до рекордных ¥135,8 млрд, а в текущем ожидается рост на 57%. Компании удалось сократить сроки изготовления некоторых машин с одного года до трех месяцев за счет запасов деталей перед фактическими заказами. Компания наняла 88 новых сотрудников и планирует принять 170 в этом году, более половины из них — за рубежом, чтобы помочь в разработке, установке и поддержке. Компания также увеличила свой бюджет на исследования на 31% до ¥7,5 млрд. «При использовании оборудования для проверки масок всегда есть стремление обнаружить все более мелкие недостатки. То, что не было проблемой на пятинанометровом уровне, приведет к снижению производительности на трех нанометрах и так далее», — считает Окабаяси.
Свежие комментарии