На информационном ресурсе применяются рекомендательные технологии (информационные технологии предоставления информации на основе сбора, систематизации и анализа сведений, относящихся к предпочтениям пользователей сети "Интернет", находящихся на территории Российской Федерации)

smi.today

4 592 подписчика

Свежие комментарии

  • Maxim
    Поменять министра, да и всё..Доля перешедших в...
  • Александр Ляшенко
    «Раздухарившийся на берегах Днепра генсек совершено игнорирует Устав ООН, наш депутат соплежуй.😡В Госдуме РФ назв...
  • Бендер Задунайский
    Козел-Шимко ? Явно из хохлосброда .Полицейского в СШ...

Удвоилась капитализация производителя литографического оборудования ASML

Капитализация крупнейшего в мире производителя литографического оборудования ASML достигла $302 млрд и это только начало, следует из результатов исследования британской аналитической компании New Street Research, 12 октября сообщает американский телеканал CNBC. На лето 2020 года капитализация нидерландской ASML составляла $153,8 млрд.

Год спустя она достигла $302 млрд. В 2022 году капитализация компании приблизится к $500 млрд, считают аналитики New Street Research. При этом выручка компании растет не столь стремительными темпами, но тоже быстро. По собственным оценкам ASML выручка в период до 2025 года будет увеличиваться в среднем на 11% в год. К 2025 году годовая выручка оценочно достигнет $35 млрд. Значительный рост выручки и стремительный капитализации связан одновременно с несколькими факторами — конкуренцией среди производителей микросхем за выпуск изделий на передовых техпроцессах и, что важнее, повсеместное строительство новых фабрик по производству чипов. Последнее связано с мировым дефицитом микросхем. Производители чипов строят большое число новых заводов, что успеть оседлать волну высокого спроса на микросхемы. При этом более 60% рынка передового литографического оборудования, которое будет установлено на всех этих заводах, удерживает ASML. К тому же ASML — единственный производитель оборудования для производства чипов с применением фотолитографии в глубоком ультрафиолете (EUV).

 

Ссылка на первоисточник
наверх