Китайская полупроводниковая промышленность добилась возможности производить микросхемы с техпроцессом до 14 нм без использования иностранных станков, материалов и технологий, заявила глава шанхайской комиссии по экономике и цифровизации Ву Цзиньчэн 14 сентября, пишет китайская газета The Global Times.
Согласно заявлению властей, расположенные в Шанхае компании сектора способны массово производить микросхемы с техпроцессом до 14 нм, выпускать литографические системы с разрешением 90 нм (используется тот же лазер 193 нм, что и для 14 нм — первого поколения 7 нм техпроцессов — прим. ИА Красная Весна), производить машины для травления с разрешением 5 нм и выпускать кремниевые пластины диаметром 300 мм. Эксперты отмечают, что заявление шанхайского чиновника стало мощным ответом на попытку США устроить технологическую блокаду Китая. («Чем сильнее будет блокада, устраиваемая США, тем быстрее Китай будет исследовать и разрабатывать свои собственные технологии» — прим. ИА Красная Весна), — заявил технологический аналитик Сян Лиган Другой эксперт, Чен Цзя, отметил, что с завершением собственного независимого комплекса производства микросхем с литографией в глубоком ультрафиолете (DUV) ускорится процесс перехода к более продвинутым техпроцессам 7 и 5 нм.
Свежие комментарии